标准详情
- 标准名称：磁控溅射设备薄膜精度测试方法
- 标准号：T/CIE 132-2022
- 发布日期：2022-08-10
- 实施日期：2022-08-10
- 中国标准号：/I6520
- 国际标准号：23.160
- 团体名称：中国电子学会
- 标准分类：集成电路设计
T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法
T/CIE 132-2022
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内容简介
本标准给出了磁控溅射设备薄膜精度评价的术语、测试原理、被测件、测试环境、测试设备、测试程序等。本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
起草单位
北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司。
起草人
赵巍胜、张博宇、程厚义、Sylvain EIMER、彭守仲、许涌、Pierre VALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆。
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