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T/CASAS 016-2022 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 (SiC MOSFET)结壳热阻瞬态双界面测试方法

T/CASAS 016-2022 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 (SiC MOSFET)结壳热阻瞬态双界面测试方法

T/CASAS 016-2022

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标准详情

  • 标准名称:碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 (SiC MOSFET)结壳热阻瞬态双界面测试方法
  • 标准号:T/CASAS 016-2022
  • 发布日期:2022-07-18
  • 实施日期:2022-07-18
  • 中国标准号:/C397
  • 国际标准号:31.080.01
  • 团体名称:北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
  • 标准分类:电子器件制造半导体器分立件综合

内容简介

本文件规定了碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)结壳热阻瞬态双界面测试方法
本文件仅适用于SiCMOSFET分立器件以源极和漏极之间的电压V_sd作为测试温敏参数的结壳热阻测试
碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)因具有禁带宽度宽、临界击穿电场强、耐高温性能好等优点,逐渐在雷达探测、医疗通讯、交通运输以及新能源等领域广泛应用。结壳热阻作为表征热量在导热路径传输能力的重要参数,是直接反映器件热性能的关键技术指标之一,可以为器件的热设计与优化改进提供参考。因而,准确的热阻测试对于SiCMOSFET的鉴定、评价及其应用具有重要意义。

起草单位

工业和信息化部电子第五研究所、中国电子科技集团第五十五研究所、南方电网科学研究院有限责任公司、国网智能电网研究院有限公司、西安交通大学、东南大学、山东大学、南京航空航天大学、深圳基本半导体有限公司、东莞南方半导体科技有限公司、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟。

起草人

付志伟、侯波、周斌、陈思、杨晓锋、陈义强、陈媛、来萍、黄云、路国光、刘奥、郭怀新、李巍巍、李金元、李尧圣、王来利、刘斯扬、杨家跃、崔益军、唐宏浩、乔良、徐瑞鹏。

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