GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法
Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
GB/T 19444-2004
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内容简介
国家标准《硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位
洛阳单晶硅有限责任公司、
起草人
相近标准
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