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GB/T 31225-2014 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法

GB/T 31225-2014 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法

Test method for the thickness of silicon oxide on Si substrate by ellipsometer

GB/T 31225-2014

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标准详情

  • 标准名称:椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法
  • 标准号:GB/T 31225-2014
  • 发布日期:2014-09-30
  • 实施日期:2015-04-15
  • 中国标准号:J04
  • 国际标准号:17.040.01
  • 代替标准:
  • 技术归口:全国纳米技术标准化技术委员会
  • 主管部门:中国科学院
  • 标准分类:物理现象计量学和测量长度和角度测量长度和角度测量综合

内容简介

国家标准《椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法》由TC279(全国纳米技术标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为中国科学院。

起草单位

上海交通大学、纳米技术及应用国家工程研究中心、

起草人

金承钰、李威、何丹农、张冰、梁齐、路庆华、

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