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T/CASAS 006-2020 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范

T/CASAS 006-2020 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范

T/CASAS 006-2020

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标准详情

  • 标准名称:碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范
  • 标准号:T/CASAS 006-2020
  • 发布日期:2020-12-28
  • 实施日期:2021-01-01
  • 中国标准号:/C397
  • 国际标准号:29.045
  • 团体名称:北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
  • 标准分类:电子器件制造

内容简介

本文件规定了碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(以下简称“晶体管”)的术语、符号、基本额定值和特性、检验要求、测量与试验方法
本文件充分借鉴了IEC60747-8-4DiscreteSemiconductordevices-Part8-4:Metal-oxide-semiconductorfield-effect-transistorsforpowerswitchingapplications的内容,并结合了近几年科研人员在SiCMOSFET功率器件的研发、测试评估以及应用方面的经验总结,对SiCMOSFET的动静态参数、可靠性考核测试方法等进行了详细的规定,但局限于当前科研人员对SiCMOSFET器件的认知,以及该产品生产与应用所处的发展阶段,可能还存在一些不足的地方,后续将根据研究进展不断进行完善和升级。

起草单位

中国科学院微电子研究所、全球能源互联网研究院有限公司、中国电子科技集团公司第五十五研究所、华大半导体有限公司、株洲中车时代电气股份有限公司、北京世纪金光半导体有限公司

起草人

许恒宇、李金元、刘奥、万彩萍、刘鹏飞、刘国友、孙博韬

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