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SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法

SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法

SJ/T 11498-2015

行业标准-电子 推荐性 现行
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标准详情

  • 标准名称:重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
  • 标准号:SJ/T 11498-2015
  • 发布日期:2015-04-30
  • 实施日期:2015-10-01
  • 中国标准号:H82
  • 国际标准号:29.045
  • 代替标准:
  • 技术归口:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:电气工程半导体材料电子

内容简介

行业标准《重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法》由全国半导体设备和材料标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。

起草单位

信息产业专用材料质量监督检验中心、苏州晶瑞化学有限公司等、工业和信息化部电子工业标准化研究院、

起草人

何友琴、马农农、何秀坤、

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